中科院等離子體所在國家重大科學(xué)工程HT--7U裝置研制過(guò)程中,又開(kāi)發(fā)了一項單元技術(shù)--鎧裝導體四槍專(zhuān)用噴砂機。近日進(jìn)行的噴砂試驗表明,該噴砂機安全達到了使用要求,噴砂機填補了國內這方面的空白。噴砂工藝目的在于對鎧裝導體表面進(jìn)行粗糙化處理,以便在真空壓力浸漬后提高機械強度。采用單槍結構的噴砂機,每臺設備噴砂時(shí)需4人人工操作,并停止導體繞制。而這種有獨立知識產(chǎn)權的四槍專(zhuān)用噴砂機,有4個(gè)噴槍在線(xiàn)操作,可實(shí)現在線(xiàn)自動(dòng)噴砂,完全解除了表面噴砂對導體繞制的影響,工作效率提高了30%至40%。不僅能節省人力,而且減少了粉塵污染。預計完成HT--7U裝置各種導體的繞制后,可節約費用近百萬(wàn)元。